儀器名稱：化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

品牌:  布魯克

型號(hào)：TriboLab CMP

產(chǎn)地：美國(guó)

儀器介紹：

1.加載方式：伺服控制閉環(huán)加載；
2.樣片夾持方式：水表面張力吸附夾持；
3.拋光速率（硅晶圓片）：300nm/min；
4.最小粗糙度（硅晶圓片）：1nm；

5.化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)主要用于Si、SiC、Ge、GaN等半導(dǎo)體材料，SiO2、Si3N4、CeO2、GeO、Al2O3等金屬氧化物以及Al普通金屬和Au、Pt等惰性金屬的化學(xué)機(jī)械拋光工藝。